纯水系统工业生产

工业纯水处理设备通常由原水预处理系统、反渗透纯化系统、超纯化后处理系统三部分组成。预处理的目的主要是使原水达到反渗透膜分离组件的进水要求，保证反渗透纯化系统的稳定运行。反渗透膜系统是一次性去除原水中98%以上离子、有机物及100%微生物（理论上）经济高效的纯化方法。超纯化后处理系统通过多种集成技术进一步去除反渗透纯水中尚存的微量离子、有机物等杂质，以满足不同用途的终水质指标要求工业纯化水系统主要分为：预处理、反渗透两部分。系统以反渗透装置为核心设备，其它设备是为其配套服务的。

工艺流程：原水箱→原水泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→软水器(视具体水质好坏)→保安过滤器→一级反渗透→生产线用水点。  

纯水设备的应用领域：

工业纯水设备是用于工业生产用水水的纯水制取装置。工业用纯水机可以用于：饮用水、瓶装水、食品工业用水、半导体工业、精细化工、光学工业用水、电镀用水、医药用水、透析医疗用水、代替各类蒸馏水及超纯水供水等。

    微电子行业包括了电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴极射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、单晶硅、多晶硅生产、电子新材料生产等生产工艺，都需要工业纯水。

    电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和 阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。

在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需高纯水80kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中有金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致报废、次品。在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，III族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。因此水的质量相当重要。采用反渗透加EDI的脱盐工艺，可以达到超纯水标

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