电子工业用超纯水设备概括：半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

电子工业用超纯水设备的工艺流程：

1.采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

2.采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

3.采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的***新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

　  电子工业用超纯水设备特点：电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

影响电子工业超纯水设备水质的两个因素

1.流量对产水水质的影响：

不同进水流量时电子工业用超纯水设备出水的电导率随操作电流变化很小，这是因为在电路上，淡室中的溶液相与树脂相是并联关系，由于所填充的离子交换树脂的导电能力远高于电渗析产水，因此树脂相电阻成为淡室电阻大小的决定因素。离子传输主要通过树脂相进行，而在一定的淡水流量范围内流量对树脂相电阻影响很小，故膜堆总电流不发生明显变化，产水电导率变化也很小，因此进水流量对水解离程度的影响很小。

2.操作电压对产水水质的影响：

电子工业用超纯水设备出水水质与操作电压密切相关。操作电压过小则不足以在纯水排出之前将离子从淡室移出，电渗析过程和树脂电再生过程都比较微弱，此时主要进行的是离子交换过程。随着操作电压的增大则水解离程度增大、树脂的再生效果好，使得淡水的电导率下降，当操作电压增加到一定程度时离子交换过程与树脂的再生过程达到了平衡，产水电导率进一步下降并趋于稳定。但操作电压过大将引起过量的水电离和离子反扩散而降低产水水质。所以，建议电子工业用超纯水设备在适当的电压下运行。

在运行一段时间的电子工业用超纯水设备需要根据实际情况进行清洗，在清洗之前也需要调整好清洗压力，在清洗过程中注意检查，避免造成设备伤害。

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