分享西安辉成光学清洗纯水设备EDI装置化学清洗及灭菌方法实例，给光学清洗纯水设备使用客户在平时维护工作中作参考。项目说明：辉成光学清洗纯水设备EDI装置设计产水量为5吨每小时

，选用艾孚尔模块，共3块。其EDI前处理工艺主要为两级反渗透。由于EDI前处理工艺各中转水箱都是敞开系统，并非完全密闭，在与空气的接触中，会引入细菌和微生物。在长时间(约1年以上时间) 的运行过程中，细菌和微生物就会在EDI内部通道累积滋生并导致EDI逐渐污染。同时，当原水水质随季节变化、前处理工艺反渗透装置随运行时间增长其使用性能逐渐下降的过程中，还会引起EDI进水电导率发生变化和EDI浓水通道和极水通道逐渐结垢，阻塞EDI离子交换通道， 减小离子交换速度，并导致EDI各项运行指标逐渐下滑，产水水质逐渐变差。

一，西安辉成光学清洗纯水设备EDI装置化学清洗及灭菌方法为定期清洗方法(每年一次)，主要采用酸性清洗、碱性清洗和灭菌维护逐步进行。酸性清洗的药剂主要选用盐酸(分析纯)，用于清除浓水道、极水道的碳酸盐垢、硫酸钙、金属氧化物和铁铝胶体等。碱性清洗的药剂主要选用固体NaOH(分析纯) 和添加剂WPEGE-EDI502，主要用于清洗淡水道的有机物、胶体污染等。灭菌过程选用的药剂是杀菌剂对模块无氧化损伤。具体清洗方法及需要控制的相关参数如表1所示。

1.西安辉成光学清洗纯水设备EDI装置清洗及灭菌结果及评价：

通过上述的清洗方法，对EDI起到了很好的维护保养效果，使EDI装置延长了使用寿命，在连续运行近4年时间里，各项参数能够保持在良好的指标范围内运行。西安辉成光学清洗纯水设备EDI装置清洗前后数据(清洗过程中进水电导率为1.4uS/cm，进水水温为24.1℃)如表2所示。

对清洗前后的EDI各项运行参数进行分析， 可以得出如下结论：

 (1)从清洗前后的数据对比来看，进水压力由0.35MPa降至0.33MPa， 产水流量由20.3m/h上升至24.1m/h，产水电阻率由16.8MQ·cm提升至17.7MQ·cm，关键的清洗指标都发生了明显变化，清洗效果很好。

(2)清洗后产水电阻率有所提升，EDI工作电流有提高，出水水质更好，这与清洗前EDI内部有污堵，导致电阻值相对较大，电流相对较小而使装置脱盐能力降低有关。

(3)浓水流量由0.85m/h提升至0.9m/h，说明对浓水通道结垢去除有效果。

2.西安辉成光学清洗纯水设备EDI装置清洗过程及注意事项：

(1) 清洗之前，需要根据EDI装置运行数据和EDI出水水质、进水口管道附着物等取样化验来确认污堵状况。

(2)清洗过程中要将清洗药液温度尽可能控制在30℃左右，因为药液温度过低或过高均不利于提升清洗效果。

(3)直通清洗和循环清洗过程均采用药液小流量、低压力方式进行， 以避免对EDI装置使用寿命造成影响。

(4)每完成一项清洗步骤，务必用二级反渗透产水冲洗清洗水箱、系统管路及EDI内部，才可进行下一步清洗步骤，避免酸、碱在EDI装置内部混和。

(5) EDI清洗药品纯度要求高，最好为分析级，如采用杂质较高的药品或不明来源的药品，会对纯水系统及EDI装置造成污染，影响水质， 尤其对于用在微电子行业的超纯水系统，在使用清洗EDI的相关药品时必须更加注意。

(6)灭菌过程最好采用无残留的非氧化型杀菌剂， 避免氧化剂对EDI内部树脂及半透膜产生降解作用，缩短EDI使用寿命。

(7) EDI系统化学清洗后还不能直接投入运行，因为化学清洗及灭菌会破坏EDI内部离子交换树脂带电电荷平衡，使装置清洗完成后初始运行产水达不到合格标准， 需要通过对EDI带电一段时间，使离子交换树脂在电场的作用下再生。EDI电再生前，要确认调整EDI的运行压力和流量至清洗前的正常状态后，并将EDI产水回流至二级反渗透产水箱以便节水。对整流器送电开始再生，每模块运行电流最好控制在2.5A，电压100V左右。通过重新再生，产水电阻率约4h后可以提高至1MQ·cm，约30h产水电阻率可提升至17MQ·cm以上。

西安光学清洗纯水设备运行状况的好坏和装置使用寿命长短取决于其进水水质的好坏，长时间的连续运行会造成EDI装置内部各通道被有机物和微生物污堵，而前处理工艺如超滤或两级反渗透设计不当、维护不及时或出现故障后没有采取正确处理方法等原因，会进一步恶化EDI进水水质，影响EDI装置正常运行和使用寿命。对于不同的污堵原因，所采用的清洗方式也会有所不同。

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